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投资投资17400万!年产1936.2吨!江西一含氟电子特气项目环评公示
信息来源:http://www.eastar-tech.com.cn/    发布时间:2024-01-29

  近期九江空压机租赁公司亿思达了解到,永修县人民政府发布公告,江西华特电子化学品有限公司拟投资17400万元在江西省九江市永修县经济开发区星火工业园现有厂区内建设年产1936.2吨电子特气项目。根据《环境影响评价公众参与办法》(生态环境部令第4号)规定,向公众公告相关环评信息。公告具体内容如下:

  项目介绍

  项目名称:江西华特永修年产1936.2吨电子特气项目。

  建设地点

  江西省九江市永修县经济开发区星火工业园现有厂区内,中心地理坐标为北纬N29°8′16.331″,东经115°46′8.336″。

  建设性质:改扩建。

  建设规模:新建和扩建7套装置,分别为一套15t/a乙硅烷、一套1t/a丙硅烷、一套0.2t/a乙锗烷、一套20t/a锗烷、一套300t/aC4F6共5套新扩建生产装置以及1套600t/a环氧乙烷分装装置和1套1000t/a三氟化氮分装装置。

  关于三氟化氮

  三氟化氮作为集成电路、显示面板等制造过程使用的优良等离子蚀刻气体,具备优异的蚀刻速率和选择性,与其他含氟类电子气体四氟化碳、六氟化硫相比,不会导致碳、硫沉积至硅表面,使用后对表面污染较小,因此三氟化氮为目前市场容量最大的电子特种气体产品之一。

  三氟化氮是国产化较为成功的含氟特气之一,国外生产企业主要包括SK Materials、韩国晓星、日本关东电化、德国默克等,国内生产企业主要包括南大光电、昊华气体、中船特气。

  关于六氟丁二烯

  六氟丁二烯(C4F6)又称全氟丁二烯,作为下一代蚀刻气体,被认为具有竞争优势,它可取代CF4用于KrF激光锐利蚀刻半导体电容器图形的干工艺。C4F6在先进制程技术层面有诸多蚀刻上的优点:它具有高选择性和精确性、各向异性,适合对100 nm以下的电子线路进行蚀刻,性能较全氟碳气体和NF3更好;C4F6与C4F8相比也具有更高的对光阻和氮化硅选择比,这是很重要的两个优点;此外环境方面也是一个非常重要的因素,C4F6的全球变暖潜能值(GWP)几乎为0。有关专家指出,到目前为止,C4F6可能是唯一能提供所需蚀刻条件及减少排放的替代物。

  六氟丁二烯(C4F6)是一种附加值高,市场前景广阔的电子气体。目前,主要由海外厂商及海外厂商在国内的子公司经营,韩国厚城、梅塞尔、关东电化和大阳日酸等在国内均有生产布局。国内也有不少企业开始对其开展研究,包括绿菱气体、宇极科技、浙化院、派瑞特气等。